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現在位置: トップ > 東大と産総研、SSD書き込み高速化−強誘電体NANDフラッシュメモリー:日刊工業新聞


(本文から引用)

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東大と産総研、SSD書き込み高速化−強誘電体NANDフラッシュメモリー  東京大学大学院の竹内健電気系工学専攻准教授と産業技術総合研究所の酒井滋樹フロンティアデバイスグループ長は、不揮発性ページバッファーを備えた強誘電体NANDフラッシュメモリーを共同開発し、同メモリーを搭載したソリッド・ステート・ドライブ(SSD)で書き込みを従来比2倍に高速化することに成功した。書き込み中に電源が切れても、書き込み対象のデータの消失を防ぐ。5年後をめどに実用化を目指す。「VLSI回路シンポジウム」で16日発表する。  今回、バッチ・ライト・アルゴリズムと不揮発性ページバッファーの新技術を開発したのがミソ。バッチ・ライト・アルゴリズムにより、強誘電体フラッシュ内のキャッシュメモリーにページサイズ分のデータを格納してから、一括してメモリーに書き込む。この結果、SSDの書き込みを従来比約2倍高速化できる。 (掲載日 2009年06月16日)この記事の関連キーワード {myDatabase::word} 本コンテンツをご覧いただくには最新のAdobe Flash Playerが必要となります。 お持ちでない方は、下のバナーよりダウ...

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